Tấm pin mặt trời silicon loại P và loại N:

Tất cả các loại pin mặt trời tinh thể loại (mono và poly) được tạo ra bằng cách sử dụng một wafer rất mỏng của silicon cơ bản với hai loại chính là loại P và loại N Wafer là gì?. Chúng được tạo ra khi silicon được pha tạp với các yếu tố hóa học cụ thể để tạo ra điện tích dương (loại P) hoặc âm (loại N).

Các tế bào silicon loại N đắt hơn để sản xuất nhưng cung cấp hiệu suất cao hơn và tỷ lệ suy thoái do ánh sáng thấp hơn, cộng với hệ số nhiệt độ được cải thiện.

Các nguyên tố hóa học được sử dụng cho doping là phốt pho tạo ra điện tích dương và boron dẫn đến điện tích âm. Tùy thuộc vào loại cấu trúc tế bào, silicon pha tạp loại n hoặc loại p được sử dụng làm cơ sở hoặc ‘chất nền’ của tế bào. Phần lớn các tế bào đơn tinh thể và đa tinh thể được sử dụng ngày nay sử dụng loại p có gốc silicon pha tạp boron. Hiện tại chỉ có một vài nhà sản xuất như LG, Panasonic và SunPower sử dụng các tấm silicon loại n hiệu quả hơn mặc dù nhiều công ty đang bắt đầu phát triển các loại tế bào n.

  • N-Type – Silicon tích điện âm pha tạp Phốt pho
  • P-Type – Silicon tích điện dương pha tạp với Boron

Cả hai loại tế bào đều sử dụng kết hợp silicon loại p và n cùng nhau tạo thành mối nối p-n, là cơ sở cho chức năng của pin mặt trời. Sự khác biệt là các tế bào loại p sử dụng silicon pha tạp Boron làm cơ sở cùng với một lớp silicon siêu mỏng loại n, trong khi các tế bào loại n thì ngược lại và sử dụng đế silicon loại n với một lớp p mỏng -kiểu.

Pin mặt trời loại P:

Sơ đồ cấu trúc cơ bản của một tế bào silicon loại P phổ biến – Mono hoặc Multi tinh thể (bấm vào để phóng to)

Sơ đồ cấu tạo pin mặt trời loại P

Như đã giải thích, silicon loại p và loại n được kết hợp lại với nhau và tạo thành thứ mà người ta gọi là mối nối p-n. Điểm nối tạo ra một điện trường cho phép dòng điện tử khi bức xạ mặt trời đi qua tế bào. Hiệu ứng quang điện là khi các photon ánh sáng (năng lượng) giải phóng các electron khỏi silicon tạo ra dòng điện.

Pin mặt trời loại N

Sơ đồ cấu trúc cơ bản của một tế bào silicon loại N – Tinh thể đơn sắc (Bấm để phóng to)

Sơ đồ cấu tạo pin mặt trời loại N

Ưu điểm của loại N

Do bản chất và thành phần vật liệu, các tế bào loại n cung cấp hiệu suất cao hơn thông qua khả năng chịu đựng tạp chất lớn hơn và các khuyết tật thấp hơn làm tăng hiệu quả tổng thể. Ngoài ra, các tế bào loại n có khả năng chịu nhiệt độ cao hơn so với cả các loại tế bào đơn và đa loại. Quan trọng hơn, các tế bào loại n không gặp phải các vấn đề về LID (suy thoái do ánh sáng) do các khiếm khuyết của boron-oxy là một vấn đề phổ biến với các tế bào loại p pha tạp với Boron.

  • Các tạp chất thấp hơn trong chất nền loại N
  • Cải thiện hiệu suất nhiệt độ cao
  • Suy thoái thấp hơn (LID)

Chi phí loại nào sẽ hiệu quả hơn:

Cấu trúc tế bào loại N đắt hơn vì nó sử dụng quá trình khuếch tán boron để thêm lớp ‘bộ phát’ loại p mỏng. Quá trình khuếch tán này phức tạp hơn và đòi hỏi nhiệt độ cao hơn so với quá trình khuếch tán phốt pho tế bào loại p. Mặc dù các tế bào loại n đắt hơn để sản xuất silicon loại n cơ bản có độ tinh khiết cao hơn nhiều cho phép hiệu quả cao hơn, tổn thất thấp hơn và suy thoái thấp hơn nhiều theo thời gian, điều này dẫn đến việc tạo ra hiệu suất và hiệu suất cao hơn giúp cải thiện khả năng hoàn vốn.

Xem thêm :

Tấm pin mặt trời được làm như thế nào?

Ở đây trong bài viết chi tiết của chúng tôi, chúng tôi mô tả cách các tấm pin mặt trời được sản xuất và tái chế. Các tấm pin mặt trời được chế tạo bằng sáu bộ phận chính trong các cơ sở sản xuất tiên tiến sử dụng cảm biến quang chính xác để định vị từng bộ phận cùng với thiết bị kiểm tra chất lượng và kiểm tra chuyên dụng.

[woovn_posts_related]

Trả lời

Email của bạn sẽ không được hiển thị công khai. Các trường bắt buộc được đánh dấu *